一种电介质/P-AlGaN叠栅增强型HEMT
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(1. 中国电子科技集团公司 第二十四研究所, 重庆 400060;2. 西安电子科技大学 微电子学院 宽禁带半导体材料与器件重点实验室, 西安 710071)

作者简介:

罗 俊(1982—),男(汉族),四川南充人,博士,高级工程师,从事新型宽禁带半导体器件、集成电路可靠性技术的研究。 郝 跃(1958—),男(汉族),安徽阜阳人,中国科学院院士,教授,博士生导师,长期从事新型宽禁带半导体材料和器件、微纳米半导体器件与高可靠集成电路的技术研究。一种电介质/P-AlGaN叠栅增强型HEMT罗 俊1, 郝 跃2(1. 中国电子科技集团公司 第二十四研究所, 重庆 400060; 2. 西安电子科技大学 微电子学院 宽禁带半导体材料与器件重点实验室, 西安 710071)摘 要: 为提高器件的阈值电压,提出了一种带电介质/P-AlGaN叠栅结构的增强型AlGaN/GaN HEMT。分析了器件阈值电压提高的机理,优化了电介质的介电常数和厚度。结果表明,该增强型AlGaN/GaN HEMT的阈值电压高达8.6 V。这个很高的阈值电压值能满足功率电子系统的安全性需要。 关键词: AlGaN/GaN HEMT; 增强型; 叠栅结构; 阈值电压 中图分类号:TN386.3文献标识码:A

通讯作者:

中图分类号:

TN386.3

基金项目:

国家自然科学基金资助项目(61404014,61574023);国家重点研发计划资助项目(2016YFB0400105)


A Dielectric/P-AlGaN Stack Gate Enhancement-Mode HEMT
Author:
Affiliation:

(1.Sichuan Institute of Solid-State Circuits, China Electronics Technology Group Corp., Chongqing 400060, P. R. China;2. Key Lab. of Wide Band Gap Semicond. Mater. and Dev., School of Microelec., Xidian University, Xi’an 710071, P. R. China)

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    为提高器件的阈值电压,提出了一种带电介质/P-AlGaN叠栅结构的增强型AlGaN/GaN HEMT。分析了器件阈值电压提高的机理,优化了电介质的介电常数和厚度。结果表明,该增强型AlGaN/GaN HEMT的阈值电压高达8.6 V。这个很高的阈值电压值能满足功率电子系统的安全性需要。

    Abstract:

    A dielectric/P-AlGaN stack gate structure was proposed to improve the threshold voltage of enhancement-mode AlGaN/GaN HEMTs, and the mechanism of the increase of threshold voltage was analyzed and explained. An enhancement-mode AlGaN/GaN HEMT with a threshold voltage of 8.6 V was obtained by optimizing the dielectric constant and thickness of the dielectric. This high threshold voltage value could meet the security requirements of power electronic systems.

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  • 收稿日期:2018-07-29
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  • 在线发布日期: 2019-06-18
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